背景

在半導(dǎo)體和液晶面板制造工藝中，真空吸盤和機(jī)械吸盤系統(tǒng)通常用于固定基板以進(jìn)行處理。然而，由于吸附、變形的影響以及對提高可靠性的要求，利用靜電力的吸盤已被廣泛應(yīng)用于當(dāng)今的半導(dǎo)體晶圓廠設(shè)備中，以克服這些限制。

解決方案

靜電吸盤由帶有表面電極的平板組成，這些電極被高壓偏置，以在平板和晶片之間建立靜電力。

有兩種類型的靜電吸盤可供選擇：Coulomb 和 Johnsen-Rahbek (JR) 類型。它們的區(qū)別在于它們的介電特性。夾緊力的產(chǎn)生方式也是有些區(qū)別。

庫侖吸盤的功能類似于傳統(tǒng)的介電電容器。

JR 型具有較大但有限的電阻，因此當(dāng)表面緊密接觸并施加電壓時，電流會流過它和基板。電荷積聚在襯底和電介質(zhì)之間的界面處，從而提供夾持力。

此外，吸盤上電極（或電極）的不同配置用于獲得不同的特性。根據(jù)應(yīng)用，可提供單極、雙極（兩極）和多極卡盤（包括 6 相六極類型）。

威思曼可為全系列的電子卡盤提供電源，其功能包括： 

高壓雙極輸出（正/負(fù)）， 

輸出極性反轉(zhuǎn)功能，便于晶圓吸附/去吸附， 

通過電容測量（庫侖卡盤）或電流測量（JR卡盤）檢測晶圓狀態(tài)的能力， 

模擬和數(shù)字接口，可輕松集成到各種系統(tǒng)中

高可靠性，無機(jī)械繼電器設(shè)計。

威思曼提供廣泛的設(shè)計理論知識和制造能力，因此可以提供廣泛的定制產(chǎn)品以滿足各種要求。根據(jù)應(yīng)用，功能包括高壓偏置/偏移和射頻濾波等選項(xiàng)。

威思曼高壓電源半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用

當(dāng)今復(fù)雜的半導(dǎo)體制造工藝需要各種高壓電源解決方案，其中大多數(shù)都具有極其苛刻的規(guī)格。威思曼產(chǎn)品在整個晶圓廠中使用，從晶圓制程的開始到結(jié)束都有應(yīng)用。從光刻 - 為光源供電 - 到靜電晶片夾持到檢查和測試設(shè)備，我們的精確、低噪聲、高度穩(wěn)定的高壓電源確實(shí)是一種推動半導(dǎo)體技術(shù)快速發(fā)展的基礎(chǔ)。如果您正在從事半導(dǎo)體行業(yè)的晶圓制程請聯(lián)系威思曼了解我們提供的解決方案的更多信息。如果標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品可能無法滿足您的需求，我們可以為 OEM 應(yīng)用提供定制設(shè)計。