電子束光刻是應(yīng)用電子束加工設(shè)備和掃描電子顯微鏡技術(shù)制作用于LSI生產(chǎn)的半導(dǎo)體光罩。電子束光刻也稱為電子束光刻（EB 光刻）或 EBL。掩模版也稱為光罩，其作用類似于照相膠片，作為基板，用于將電子元件的電路圖案轉(zhuǎn)移到晶片或其他要轉(zhuǎn)移的物體上。
在電子束光刻中，從電子槍發(fā)出的電子束（E 束）被電子透鏡聚焦成一個非常小的光斑。通過根據(jù)光刻圖案控制會聚電子束的移動和載物臺的移動，對光刻材料進行電子光刻。電子束和載物臺的控制基于電子束加工設(shè)備和掃描電子顯微鏡技術(shù)。
電子束光刻設(shè)備所需的電子槍和電子透鏡需要高精度高壓電源來操作。
威思曼高壓電源3D系列是專門為電子槍和電子束光刻設(shè)備的電子透鏡提供電源。這些高壓電源也可以定制以滿足客戶的要求。
威思曼擁有一系列可用于電子束光刻的電源。示例：3D；3DA；EM ; SEM ;
